←参加企業一覧へ戻る

株式会社エスエヌジー

企業名 株式会社エスエヌジー
代表者 代表取締役社長 白 鴻志 設立年月日 2013年7月17日
住所 615-8245
京都府京都市西京区御陵大原1-39 京大桂ベンチャープラザ南館2215号室
資本金 3,000,000 円 従業員数 7 名
TEL 075-874-5643 FAX 075-874-5743
URL

https://www.sng-inc.co.jp/

企業概要(キャッチフレーズ)

高純度シリカ多孔質材DualPore™で高品質・効率化を実現

参加者情報
参加分野

●創薬関連・診断・検査試薬分野  ●機能性食品・化粧品分野 

売りたい商品・技術・サービス等 ppm以下へ容易に除去する金属触媒除去、高性能プロセス担体
商品・技術・事業の概要 当社独自のモノリス技術を応用した「DualPore™」は、一体型モノリスを粉砕・分級することで得られる貫通孔と細孔を持つ二段階孔構造シリカ粒子です。従来粒子にない非常に高い空隙率と比表面積を誇り、モノリス特有の高速処理性能を兼ね備えています。処理用吸着材や分離精製用カラム充填剤などの製品を展開しています。
・「DualPore™メタルスカベンジャーシリカゲル」
溶液中の金属イオンを簡便迅速に吸着除去するために開発した金属捕集用シリカゲルです。高い比表面積を持ち金属の吸着平衡が吸着側で安定化される為、従来粒子よりもはるかに吸着力が高く、極低濃度でも高い捕集力を発揮します。ICH-Q3Dに対応した分析にもご利用いただけます。
・「DualPore™ODS Flash」
中低圧でも高速処理を実現する逆相液体クロマトグラフィ用シリカゲル充填カラムです。DualPore™のパーフュージョン効果により、低分子からペプチドやタンパク質等の巨大分子の精製まで効果を発揮します。その為、中低圧に適した粒子径・粒子形状で十分に高い分解能を示し、極低圧でも高性能な分離精製を実現します。
商品・技術の写真やデータ

こんな企業とマッチングを行いたい! 製薬、化学、学術・研究機関、販売代理店
売りたい企業選択欄
企業プレゼン

行う

展示会出展

行う

←参加企業一覧へ戻る